Técnicas de caracterización estructural, composicional y morfológica de materiales

El objetivo del libro es servir como texto de referencia en asignaturas introductorias a las técnicas de procesamiento de materiales y técnicas de caracterización. Este texto es una herramienta útil como fuente de consulta para técnicos e investigadores que requieran trabajar en dichas áreas.

Él se desarrolló en tres partes, en las que el lector podrá encontrar un concepto claro respecto al tema tratamientos y caracterización de superficies. En la primera parte se da un concepto general de la interacción de la radiación electromagnética y de las partículas con la materia, a partir de principios básicos espectroscópicos y no espectroscópicos. La segunda parte hace una descripción de las diferentes técnicas de deposición por plasma que se utilizan actualmente para el procesamiento de nuevos materiales. Finalmente, en la tercera parte del libro se realiza una descripción de las técnicas de caracterización más importantes para el análisis de superficies; mostrando el principio físico y un ejemplo característico de cada técnica. 

Parte I Generalidades y principios
  1.1 Introducción 1.2 Principios básicos de los métodos espectroscópicos 1.2.1 Principios básicos de los métodos no espectroscópicos 1.3 Interacción partículas-materia 1.3.1 Electrones retrodispersados (Backscattered) 1.3.2 Electrones secundarios 1.3.3 Electrones Auger 1.3.4 Rayos X 1.3.5 Electrones no dispersados 1.3.6 Electrones dispersados elásticamente 1.3.7 Electrones dispersados inelásticamente   Parte II Sistemas de recubrimientos   2. Equipos de producción de películas 2.1 Introducción 2.2 Técnicas PAPVO 2.3 Sputtering 2.4 Evaporación 2.4.1 Arco Pulsado 2.4.2 Arco pulsado repetitivo   Parte III Fourier Transform Infrared Spectroscopy (FT-IR)   3.1 Introducción 3.2 Región infrarroja 3.3 Fundamentos 3.4 Tipos de vibración 3.5 Intensidad de las bandas de absorción 3.6 Frecuencias teóricas de grupo 3.7 Aplicación de la transformada de Fourier 3.8 Instrumentación 3.8.1 Fuentes de radiación 3.8.2 Interferómetro 3.8.3 Detectores 3.8.4 Aplicación de la transformada de Fourier 3.9 Aplicación de la técnica FT-IR a películas delgadas 3.9.1 Estudio de películas de BN 3.9.2 Estudio de películas de CNx
  Parte IV Espectroscopia de fotoelectrones de rayos X (XPS)   4.1 Introducción 4.2 Fundamentos 4.2.1 Energía de enlace y ajuste químico 4.2.2 Energía de enlace de referencia 4.3 Aplicación de la técnica XPS 4.4 Instrumentación 4.5 Estudio bicapas de TiN/TiC por la técnica XPS
 

Bibliografía